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論文

Low-energy ion source characteristics for producing an ultra-fine microbeam

石井 保行; 田中 隆一; 磯矢 彰*

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 113(1-4), p.75 - 77, 1996/06

 被引用回数:16 パーセンタイル:77.72(Instruments & Instrumentation)

デバイスの内部構造の分析等に0.1$$mu$$m級のマイクロビームの要求が高まっている。しかし、現在広く用いられている磁気レンズを使ってビームを絞る方法は、球面収差および色収差の増大のために限界がある。この限界を高くして0.1$$mu$$m級のマイクロビームを発生する超マイクロビーム発生装置の研究開発を行っている。上記色収差の軽減のために、この収差の原因であるビームのエネルギー幅を減少させる研究を行った。ビームのエネルギー幅はイオン源から発生するため、ビームのエネルギーを減少させる専用のイオン源が必要である。この目的のためにイオン源を考案した。このイオン源からH$$_{2}$$およびArイオンを小径の引き出し孔より発生させ、ビームのエネルギー幅の測定を行った。このイオン源と実験の結果を発表する。

論文

2MeV Heサブミクロンビームの形成実験

神谷 富裕; 須田 保; 酒井 卓郎; 濱野 毅*

第8回タンデム加速器及びその周辺技術の研究会報告集, P. 73, 1995/07

高分解能局所イオンビーム分析を目的とする原研TIARAの軽イオンマイクロビーム装置は、サブミクロンのビームスポット形成を目標としており、現在までに0.3$$mu$$mのビームサイズを達成している。ビームサイズに下限を与える光学収差のうち色収差を最小限にするため、シングルエンド加速器の電圧安定度と90度分析電磁石によるエネルギー分析系のエネルギー分解能をともに10$$^{-5}$$とした。またそれぞれを10$$^{-4}$$とした場合についての測定を行い比較した。より大きなビーム電流を得るために加速器に搭載されたRF型イオン源の最適な運転パラメータのサーチを行っており、現在までに0.4$$mu$$mのビームサイズで77pAのHe 2MeVビームが得られている。今回はビームサイズ及びビーム電流計測結果とそれに対するビーム光学的な評価について述べる。

論文

2MeV sub-micron microbeam focusing

神谷 富裕; 須田 保*; 田中 隆一

JAERI TIARA Annual Report 1994, p.229 - 231, 1995/00

軽イオンマイクロビーム装置は、高分解能イオンビーム分析のためHe等の軽イオンにおいて100pA以上、スポットサイズ0.25$$mu$$m以下のサブミクロンビーム形成を目標としている。色収差を最小限にするため、シングルエンド加速器のシェンケル型昇圧回路の端子電圧リップルを10$$^{-5}$$のレベルにした。また加速器に搭載されたRF型イオン源から引出されるビームエネルギーに広がりの影響を最小にするために90度分析電磁石によるエネルギー分解能も10$$^{-5}$$のレベルとした。また加速器に搭載されたRF型イオン源から引出されるビームエネルギーの広がりの影響を最小にするために90度分析電磁石によるエネルギー分解能も10$$^{-5}$$のレベルとした。一方、より多くのビーム電流を得るためにイオン源のパラメータに対するビーム特性テストを行ってきた。これまでのビームサイズ計測実で2MeV Heビームの77pAの電流、0.4$$mu$$mのサイズが達成された。今回は、色収差とビーム輝度に関わるビーム光学についての議論およびビームサイズ計測実験について報告する。

論文

サブミクロンマイクロビーム形成装置の開発

神谷 富裕; 須田 保*; 田中 隆一

第7回タンデム加速器及びその周辺技術の研究会報告集, 0, p.55 - 58, 1994/00

MeV軽イオン用のサブミクロンマイクロビーム形成装置を製作し、TIARAの3MVシングルエンド型加速器のビームライン上に設置した。$$mu$$-RBS、$$mu$$-PIXEの他、新たなビーム応用の実現のため、電流100pA以上、ビームスポットサイズ0.25$$mu$$mのマイクロビーム形成を目標としている。レンズ系における色収差とターゲット電流の安定性を考慮し、加速電圧安定度$$pm$$1$$times$$10$$^{-5}$$と曲率半径1.5mの90度分析電磁石による高エネルギー分解能を実現した。また、スリット、Qレンズ等のレンズ系の主要構成機器については、寄生収差を極小にするための高精度な工作、組立およびアライメントが行われた。2MeV Heイオンによるビーム計測実験において、テスト試料の二次電子マッピングを行い、ビームサイズを測定した。本報告では、マイクロビーム装置の概要とビーム計測実験について述べる。

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